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型號:

HWN-L6新型納米激光直寫系統(tǒng)

描述:HWN-L6新型納米激光直寫系統(tǒng)是一款大面積、高精度、可套刻、超衍射極限加工的激光直寫系統(tǒng),可用于晶圓尺寸的大面積微納加工,適用于各種微納結(jié)構(gòu)和器件制造、小批量微納器件生產(chǎn)等。該系列包括L50、L100等不同型號,具有功能強大、維護簡單、加工分辨率高、支持多種刻寫模式、支持多種受體材料等特征。本系統(tǒng)在設(shè)計之初保留了充足的物理空間和硬件資源,以滿足后續(xù)功能升級換代的需求,使產(chǎn)品具有更長的生命周期

  • 廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)廠家
  • 更新時間

    2024-09-25
  • 訪問量

    746
詳細介紹
品牌其他品牌應(yīng)用領(lǐng)域化工
激光波長405nm特征尺寸100nm
激光功率120mW至300mW(可選)芯片尺寸6英寸
刻寫范圍50mm×50mm至100mm×100mm(可選)

HWN-L6新型納米激光直寫系統(tǒng)擅長wafer尺寸的研究開發(fā)和小批量生產(chǎn)

HWN-L6新型納米激光直寫系統(tǒng)是一款大面積、高精度、可套刻、超衍射極限加工的激光直寫系統(tǒng),可用于晶圓尺寸的大面積微納加工,適用于各種微納結(jié)構(gòu)和器件制造、小批量微納器件生產(chǎn)等。該系列包括L50、L100等不同型號,具有功能強大、維護簡單、加工分辨率高、支持多種刻寫模式、支持多種受體材料等特征。另外,本系統(tǒng)在設(shè)計之初保留了充足的物理空間和硬件資源,以滿足后續(xù)功能升級換代的需求,使產(chǎn)品具有更長的生命周期。

蘇州華維納納米科技有限公司于2011年注冊成立的高科技創(chuàng)新型公司,主要從事新型納米光刻技術(shù)和無掩模納米光刻機的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化工作。






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