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| 品牌 | 其他品牌 | 應用領域 | 化工 |
|---|---|---|---|
| 激光波長 | 405nm | 特征尺寸 | 100nm |
| 激光功率 | 120mW至300mW（可選） | 芯片尺寸 | 2英寸 |
| 刻寫范圍 | 50mm×50mm?至?100mm×100?mm（可選） |
HWN-L2新型納米激光直寫系統是一款大面積、高精度、可套刻、超衍射極限加工的激光直寫系統，可用于晶圓尺寸的大面積微納加工，適用于各種微納結構和器件制造、小批量微納器件生產等。該系列包括L50、L100等不同型號，具有功能強大、維護簡單、加工分辨率高、支持多種刻寫模式、支持多種受體材料等特征。另外，本系統在設計之初保留了充足的物理空間和硬件資源，以滿足后續(xù)功能升級換代的需求，使產品具有更長的生命周期。
蘇州華維納納米科技有限公司于2011年注冊成立的高科技創(chuàng)新型公司，主要從事新型納米光刻技術和無掩模納米光刻機的研發(fā)和產業(yè)化工作。
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