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品牌 | 其他品牌 | 應用領域 | 化工 |
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激光波長 | 405nm | 特征尺寸 | 100nm |
激光功率 | 120mW至300mW(可選) | 刻寫范圍 | 1000umx1000um |
HWN-P1500-1000新型納米激光直寫系統(tǒng)是專門為科研團隊和加工平臺設計的小范圍多功能光刻系統(tǒng),根據壓電平臺的移動范圍,分為P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型號,具有結構緊湊、操作方便、維護簡單、加工分辨率高、支持多種受體材料等特征,能廣泛適用于各種微納結構及器件制造、材料工藝探素和小規(guī)模生產。該系列產品還可根據用戶特殊需求,提供定制設計和制造。
新概念技術:華維納LDW-P系列通過激光與材料的非線性相互作用,成功突破了光學衍射極限的限制,實現了納米尺度的加工分辨力,最小的孔洞直徑可達50nm。
多受體材料:華維納LDW-P系列通過高精度的功率調制(<1‰),可兼容包括金屬薄膜、無機相變材料、光刻膠等多種受體材料。
可靠易用性:華維納LDW-P系列擁有強大的軟件功能,支持標量刻寫、矢量刻寫等多種刻寫模式,供用戶根據不同的刻寫場景而選擇。另外,LDW-P系列還支持樣品刻寫后的在線分析,使用戶一站式完成設計、刻寫、分析等步驟, 大大提高了工作效率。
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